コーティング技術
HT OPTICS の特許親会社である HTNM は、光学、機能性薄膜、高周波 (RF) フィルター、光ファイバー部品、バイオセンサー、圧電センサーなどのアプリケーション向けに、サファイアや AlN などの新素材を使用した高度な製品を顧客に提供する最先端のテクノロジー企業です。
HTNMは、独自に開発した薄膜成膜ARS(原子反応性スパッタリング)技術を用いた高精度光学薄膜製品のサプライヤーです。この革新的な技術の特許は 2015 年に HTNM に授与されました。この技術により、HTNM は AR コーティング、バンドパス フィルター、DLC などを含むさまざまな高性能薄膜製品を製造できるようになります。
テクノロジーの利点:
1) 特許取得済みの薄膜技術 ARS (原子反応性スパッタリング) (中国特許番号 201310082514.1)
2) 独自の光学モニタリング設計により、ウェーハ上の光学特性と厚さを安定したリアルタイムのその場モニタリング
3) コーティング 1 回あたり 9 枚以上のウエハを堆積できる独自のウエハ キャリア設計
4) 利用可能なほとんどの PVD 技術を備えています: 熱蒸着、電子ビーム、IAD、スパッタリング
5) さまざまなコーティングチャンバーサイズと短納期を備えています: 800mm ～ 1300mm
6) 安定した高速スパッタリングを実現する独自の大型カソード設計
7) 高温プロセス向けの独自の大型カソード設計: >800°C
8) 基板温度 > 800°C を必要とするプロセス向けの独自の真空チャンバー設計
9) 蒸着中のウェーハ上の汚染を最小限に抑える独自の設計とセットアップ
10) 安定した流量とポンプ速度を確保するために、堆積領域と反応領域を分離する独自のチャンバー設計
統合サービスの利点:
1) 薄膜製品を豊富に取り揃えております:
l AR(反射防止)
l HR(高反射)
l BS(ビームスプリッター)
l EF(エッジフィルター)
l BP(バンドパスフィルター)
l メタリックコーティング
l AS/AF(指紋防止)
2) 薄膜製品はUVから近赤外(190nmから3um)までをカバーします
3) ARS プロセスによる超硬質コーティング、高 LIDT コーティング
4) 私たちは狭帯域フィルターの専門家です: 光学フィルター、高キャビティフィルター、3D カメラフィルター、蛍光フィルター
5) カスタム設計のコーティングと高速プロトタイピング
6) 最新の計測機器: ZYGO、KLA、Cary…
ガラス、サファイア、セラミック用の最先端のラッピング/研磨ライン
薄膜コーティング能力:
電子ビーム/熱源蒸着:
電子ビーム/熱源蒸着 | ||
仕様 |
一般的な許容差 |
最高の許容範囲 |
ランダムな物理的厚さエラー | <2.0% | <1.0% |
ランダムな光学的厚さエラー | <1.0% | <0.5% |
ランツーランのセンタリング | ± 1.5% | ± 0.5% |
惑星の均一性 | <1.0% | <0.25% |
ウェット/ドライシフト（範囲） | 0.5-1.5% | 0.5-1.5% |
(人事部、1064nm、10ns、10Hz) レーザー損傷閾値 (HR、1064nm、10ns、10Hz) | >15 J/cm2 | >30 J/cm2 |
吸収 | <0.1% | <0.1% |
散布 | <0.1% | <0.1% |
表面粗さ | 20 Å rms（代表値） | 10 Å rms（代表値） |
イオンアシスト蒸着 (IAD)
イオンアシスト蒸着 (IAD) | ||
仕様 |
一般的な許容差 |
最高の許容範囲 |
ランダムな物理的厚さエラー | <2.0% | <1.0% |
ランダムな光学的厚さエラー | <1.0% | <0.5% |
ランツーランのセンタリング | ± 1.5% | ± 0.5% |
惑星の均一性 | <1% | <0.25% |
ウェット/ドライシフト（範囲） | 0.5-1% | 0.5-1% |
(人事部、1064nm、10ns、10Hz) レーザー損傷閾値 (HR、1064nm、10ns、10Hz) | >10 J/cm2 | >15 J/cm2 |
吸収 | <0.1% | <0.1% |
散布 | <0.1% | <0.1% |
表面粗さ | 20 Å rms（代表値） | 10 Å rms（代表値） |
原子反応性スパッタリング (ARS)
原子反応性 スパッタリング（ARス） | ||
仕様 |
一般的な許容差 |
最高の許容範囲 |
ランダムな厚さのエラー | <0.7% | <0.25% |
ランツーランのセンタリング | ± 0.5% | ± 0.25% |
惑星の均一性 | <1% | <0.25% |
ウェット/ドライシフト（範囲） | 0% | 0% |
(人事部、1064nm、10ns、10Hz) レーザー損傷閾値 (HR、1064nm、10ns、10Hz) | >1J/cm2 | >1J/cm2 |
吸収 | ~ 100PPM(0.01%) | ~50PPM |
散布 | ~ 100PPM(0.01%) | ~50PPM |
表面粗さ | 10 Å rms（代表値） | 5 Å rms（代表値） |
コーティング試験機能:
ケーリー 分光光度計 | ||
テスト |
代表的な範囲 |
許容範囲 |
透過スキャン、垂直入射 | 0.190-3.0 mm | ± 0.05% @ 吸光度 =0.5 |
反射スキャン、垂直入射 | 0.190-3.0 mm 市販の反射率ツール
HT’s 反射率ツール
AR反射率スキャン |
± 1.0%
±0.50%
±0.05% |
透過スキャン、斜入射 | 0.190-3.0 mm 0～90度可変角度固定具 P、S、UNP 極性 | ± 0.05% @ 吸光度 =0.5 |
反射スキャン、斜入射 | 0.190-3.0 mうーん、 45°治具 市販の反射率ツール
HT’s 反射率ツール
AR反射率スキャン P、S、UNP 極性 |
± 1.0%
±0.25%
±0.05% |
加湿器 | |
テスト |
代表的な範囲 |
ミル。仕様温度テスト |
-70 +150まで °C (-94 ～ 302 °F) |
ミルスペック湿度 TEST（東部基準時 |
10%-95%RH |
塗膜硬度計 | |
テスト | 代表的な範囲 |
ミルスペック。塗膜硬度試験
| 粘着力（テープ） 軽度の摩耗（寒冷紗） ひどい磨耗（消しゴム） |
レーザー試験 | |
テスト |
代表的な範囲/許容差 |
633 nm HeNe レーザー |
出力電力 = 100 mW～5mW |
波長可変レーザー |
l=1510～1590nm |
レーザー損傷閾値 (LDT) |
l=193nm～10.6 mm (独立したラボテスト) |
干渉計 | |
テスト |
代表的な精度 (限界) |
Zygo 高解像度 GPI-XP (l = 633nm) l 4 インチから 6 mm の減速機付き l/20波基準フラット l F/0.75、F/1.5、F/3.4、F/7.6、 F/10.6 透過球 (直径 4 インチ) |
表面平坦度:
直径10～152mm: l/40 (下限) |
